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維薩拉推出新一代 Polaris™ PR53S 半導(dǎo)體在線折光儀

http://m.henanjusheng.com 2026-06-15 17:48 來源:維薩拉(北京)測量技術(shù)有限公司

  在半導(dǎo)體制造過程中,從化學(xué)品配制、清洗、刻蝕到 CMP 漿料管理,液體化學(xué)品濃度的微小變化都可能對工藝穩(wěn)定性、產(chǎn)品良率和生產(chǎn)效率產(chǎn)生影響。

  隨著先進(jìn)制程不斷發(fā)展,工藝控制對于實時性、準(zhǔn)確性和可靠性的要求也在持續(xù)提高。如何實現(xiàn)穩(wěn)定、連續(xù)且易于集成的在線濃度監(jiān)測,已成為眾多半導(dǎo)體制造商和設(shè)備廠商關(guān)注的重要課題。

  基于超過 40 年的 K-PATENTS® 在線折光測量技術(shù)積累,維薩拉正式推出新一代 Polaris™ PR53S 半導(dǎo)體在線折光儀,為半導(dǎo)體濕法化學(xué)工藝提供更加精準(zhǔn)、可靠的在線濃度測量方案。

  為半導(dǎo)體濕法工藝而生

  PR53S 專為半導(dǎo)體液體化學(xué)應(yīng)用設(shè)計,可廣泛應(yīng)用于:

  •化學(xué)品混配(Blending)

  •清洗工藝(Cleaning)

  •刻蝕工藝(Etching)

  •化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)

  •化學(xué)品輸送與分配系統(tǒng)(Chemical Distribution)

  通過實時在線監(jiān)測化學(xué)品濃度,幫助用戶實現(xiàn)更嚴(yán)格的過程控制,減少化學(xué)品浪費,并提升生產(chǎn)效率與一致性。

  即使面對嚴(yán)苛工況,也能穩(wěn)定測量

  半導(dǎo)體濕法工藝環(huán)境往往充滿挑戰(zhàn)。氣泡、顆粒、結(jié)晶物以及復(fù)雜化學(xué)介質(zhì),都會影響傳統(tǒng)測量技術(shù)的穩(wěn)定性。而 PR53S 采用成熟的在線折光測量原理,即使在存在氣泡、顆?;蚓w的情況下,依然能夠提供可靠且可重復(fù)的測量結(jié)果。

  同時,產(chǎn)品內(nèi)置溫度補償功能,實現(xiàn)無漂移測量,確保長期運行下的數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性,為關(guān)鍵工藝控制提供可信依據(jù)。

  更緊湊,更易集成

  除了測量性能,PR53S 在設(shè)備集成方面也進(jìn)行了優(yōu)化升級。其緊湊型設(shè)計搭配超純改性 PTFE 流通池,可輕松集成至濕法機(jī)臺、化學(xué)品輸送系統(tǒng)及各類工藝設(shè)備之中。潔凈室適用設(shè)計能夠滿足半導(dǎo)體行業(yè)對材料兼容性和潔凈度的嚴(yán)格要求。

  對于設(shè)備 OEM 和系統(tǒng)集成商而言,PR53S 能夠在不增加系統(tǒng)復(fù)雜度的情況下,實現(xiàn)高可靠性的在線濃度監(jiān)測。

  少維護(hù),更高運行時間

  PR53S 采用無活動部件設(shè)計,無需耗材,維護(hù)需求低。設(shè)備既可獨立運行,也可與維薩拉 Indigo™ 數(shù)據(jù)處理平臺配合使用,實現(xiàn)更加靈活的數(shù)據(jù)管理與系統(tǒng)集成。

  從工藝優(yōu)化到設(shè)備運維,從化學(xué)品管理到良率提升,PR53S 為半導(dǎo)體制造企業(yè)提供了一種更加可靠、高效的在線濃度測量解決方案。

  主要優(yōu)勢:

  •專為半導(dǎo)體濕法化學(xué)工藝設(shè)計

  •適用于混配、清洗、刻蝕、CMP 等關(guān)鍵應(yīng)用

  •即使存在氣泡、顆粒或結(jié)晶物仍可穩(wěn)定測量

  •集成溫度補償,實現(xiàn)長期無漂移測量

  •無活動部件、無耗材,維護(hù)需求低

  •緊湊型潔凈室設(shè)計,易于集成

  •支持獨立運行或接入 Indigo平

  當(dāng)工藝控制的要求越來越嚴(yán)苛,可靠的數(shù)據(jù)將成為提升良率和效率的重要基礎(chǔ)。全新 Polaris™ PR53S,以經(jīng)過驗證的在線折光測量技術(shù),為半導(dǎo)體濕法工藝帶來更精準(zhǔn)、更穩(wěn)定的濃度監(jiān)測能力。了解更多產(chǎn)品信息,請訪問維薩拉官網(wǎng):維薩拉 Polaris™ PR53S 半導(dǎo)體在線折光儀 | 維薩拉 (Vaisala)。

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