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　　在半導體制造過程中，從化學品配制、清洗、刻蝕到 CMP 漿料管理，液體化學品濃度的微小變化都可能對工藝穩(wěn)定性、產品良率和生產效率產生影響。

　　隨著先進制程不斷發(fā)展，工藝控制對于實時性、準確性和可靠性的要求也在持續(xù)提高。如何實現穩(wěn)定、連續(xù)且易于集成的在線濃度監(jiān)測，已成為眾多半導體制造商和設備廠商關注的重要課題。

　　基于超過 40 年的 K-PATENTS® 在線折光測量技術積累，維薩拉正式推出新一代 Polaris™ PR53S 半導體在線折光儀，為半導體濕法化學工藝提供更加精準、可靠的在線濃度測量方案。

　　為半導體濕法工藝而生

　　PR53S 專為半導體液體化學應用設計，可廣泛應用于：

　　•化學品混配（Blending）

　　•清洗工藝（Cleaning）

　　•刻蝕工藝（Etching）

　　•化學機械拋光（CMP）

　　•化學品輸送與分配系統（Chemical Distribution）

　　通過實時在線監(jiān)測化學品濃度，幫助用戶實現更嚴格的過程控制，減少化學品浪費，并提升生產效率與一致性。

　　即使面對嚴苛工況，也能穩(wěn)定測量

　　半導體濕法工藝環(huán)境往往充滿挑戰(zhàn)。氣泡、顆粒、結晶物以及復雜化學介質，都會影響傳統測量技術的穩(wěn)定性。而 PR53S 采用成熟的在線折光測量原理，即使在存在氣泡、顆?；蚓w的情況下，依然能夠提供可靠且可重復的測量結果。

　　同時，產品內置溫度補償功能，實現無漂移測量，確保長期運行下的數據準確性，為關鍵工藝控制提供可信依據。

　　更緊湊，更易集成

　　除了測量性能，PR53S 在設備集成方面也進行了優(yōu)化升級。其緊湊型設計搭配超純改性 PTFE 流通池，可輕松集成至濕法機臺、化學品輸送系統及各類工藝設備之中。潔凈室適用設計能夠滿足半導體行業(yè)對材料兼容性和潔凈度的嚴格要求。

　　對于設備 OEM 和系統集成商而言，PR53S 能夠在不增加系統復雜度的情況下，實現高可靠性的在線濃度監(jiān)測。

　　少維護，更高運行時間

　　PR53S 采用無活動部件設計，無需耗材，維護需求低。設備既可獨立運行，也可與維薩拉 Indigo™ 數據處理平臺配合使用，實現更加靈活的數據管理與系統集成。

　　從工藝優(yōu)化到設備運維，從化學品管理到良率提升，PR53S 為半導體制造企業(yè)提供了一種更加可靠、高效的在線濃度測量解決方案。

　　主要優(yōu)勢：

　　•專為半導體濕法化學工藝設計

　　•適用于混配、清洗、刻蝕、CMP 等關鍵應用

　　•即使存在氣泡、顆?；蚪Y晶物仍可穩(wěn)定測量

　　•集成溫度補償，實現長期無漂移測量

　　•無活動部件、無耗材，維護需求低

　　•緊湊型潔凈室設計，易于集成

　　•支持獨立運行或接入 Indigo平

　　當工藝控制的要求越來越嚴苛，可靠的數據將成為提升良率和效率的重要基礎。全新 Polaris™ PR53S，以經過驗證的在線折光測量技術，為半導體濕法工藝帶來更精準、更穩(wěn)定的濃度監(jiān)測能力。了解更多產品信息，請訪問維薩拉官網：維薩拉 Polaris™ PR53S 半導體在線折光儀 | 維薩拉 (Vaisala)。